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MPA-SC(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)は半導体向けフォトレジスト溶剤に使用されています。
シリコンウェハ上に微細な電子回路を形成する際に用いられるフォトレジストには低メタルに管理されている必要があります。当社MPA-SCはpptオーダーで金属管理した溶剤として多く供給しています。
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