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半導体製造工程に使用されるフォトレジストは高純度かつ低金属を要求されています。
露光技術の向上により更なる微細化が進んでおり、従来よりもフォトレジストの金属低減化が一層要求されています。EL-メタノールは半導体向けのフォトレジストポリマーの洗浄、晶析溶剤として使用され、金属除去を行います。
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